日本uv-asumi準分子輻照裝置介紹
準分子燈利用充滿稀有氣體的燈內產生的放電等離子體產生的光（準分子光）。
主要波長為126nm（Ar 2 *）、146nm（Kr 2 *）、172nm（Xe 2 *）、222nm（KrCl *）和308nm（XeCl * ）。
我們使用Hamamatsu Photonics Co., Ltd.生產的Xe 2主波長為172 nm的燈單元，并提供表面改性和親水處理（改善潤濕性）的設備。
通過使用平板燈，可以實現大面積的均勻照射。
采用RF（射頻），輸出穩定，閃爍少
172nm 的單一波長可實現更高效的準分子輻照加工。
可以立即打開和關閉
與電暈放電和等離子方法直接對工件進行放電不同，準分子照射僅照射真空紫外線，因此對工件幾乎不會造成損壞。
與因電極濺射而產生灰塵的電暈放電法和等離子法不同，可以進行清潔加工。
準分子照射使用平板燈發出的光，因此不存在加工不均勻的情況。
光的波長越短，它的能量就越高。使用氙 (Xe) 的準分子燈具有 172nm 的主波長和 698kJ/mol (7.23eV) 的高能量。利用這種高能量，它可用于特氟龍等難以使用低壓汞燈對其表面進行改性的材料。
該裝置集成了主波長為172nm的準分子照射裝置、掃描臺和臭氧分解裝置，僅使用100V電源即可輕松安全地進行準分子表面改性實驗。
掃描階段允許處理比以前更大的區域。集成臭氧分解裝置，無需排氣設備等。
這是照射寬度為400mm的準分子照射單元的掃描型照射裝置。
最大工作尺寸為 400 x 800 毫米。
